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    半導體電子設(shè)備

    硅片擴散超聲波清洗機

    發(fā)布時間:2020-10-05 作者:魯超超聲 點擊:111次

    硅片擴散超聲波清洗機(圖1)

     

    概述:

    該設(shè)備用于晶圓片擴散、蒸發(fā)、CAV生產(chǎn)前的清洗處理。該機共有六種清洗方式可供選擇,清洗程序為純水清洗、膽堿清洗、冷熱純水沖洗、酸洗(HF)、純水清洗。其工藝性能指標及可靠性完全達到進口同類設(shè)備水平,但價格、售后服務(wù)、備品備件的供給等是進口設(shè)備無法比擬的。

    主要特點:

    采用進口PP板制作。

    適用2-6寸硅片清洗。

    超聲功率強勁,性能穩(wěn)定。

     


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